真空等离子处理
用于镀铝设备上的真空等离子系统
用于处理镀铝设备中许多不同的基材需要使用真空等离子系统.
这个系统安装在涂层步骤之前, 确保铝膜上有较好的附着力上(或其他涂层材料)和阻隔性能 .
实际上它是为涂布之前的获得理想表面的基本步骤,有助于涂层材料的沉积,均匀性避免销孔和其他异样物质出现阻挡层.
用于处理镀铝设备中许多不同的基材需要使用真空等离子系统.
这个系统安装在涂层步骤之前, 确保铝膜上有较好的附着力上(或其他涂层材料)和阻隔性能 .
实际上它是为涂布之前的获得理想表面的基本步骤,有助于涂层材料的沉积,均匀性避免销孔和其他异样物质出现阻挡层.
隐私权政策 | Company Info 电话 : +39.0583.406060 | 传真 : +39.0583.406050 | info@mero.it | PEC